工艺目标
P R O C E S S G O A L
俱进电子工艺路线图 | ||||||
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2018 | 2019 | 2020 | ||||
最小 线宽/间距 | 量产 | 打样 | 量产 | 打样 | 量产 | 打样 |
最高层数 | 24 | 30 | 26 | 34 | 26 | 36 |
最小板厚 | 0.3 | 0.2 | 0.3 | 0.2 | 0.3 | 0.2 |
最小覆铜厚度 | 0.05 | 0.05 | 0.05 | 0.05 | 0.05 | 0.05 |
最小激光孔 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 |
最大板厚孔径比 | 16:01:00 | 18:01:00 | 18:01:00 | 20:01:00 | 20:01:00 | 22:01:00 |
最小过孔 | 0.15 | 0.1 | 0.15 | 0.1 | 0.1 | 0.1 |
阻抗控制 | ±7 | ±7 | ±7 | ±5 | ±7 | ±5 |
RoHs认证 | 具备 | 具备 | 具备 | 具备 | 具备 | 具备 |
无铅工艺 | 具备 | 具备 | 具备 | 具备 | 具备 | 具备 |
绿色材料-H/F | 具备 | 具备 | 具备 | 具备 | 具备 | 具备 |
铜填充微孔 | 具备 | 具备 | 具备 | 具备 | 具备 | 具备 |
HDI 结构 | 1+N+1 | 2+N+2 | 2+N+2 | 3+N+3 | 2+N+2 | 4+N+4 |
ELIC级别 | 10层 | 12层 | 12层 | 14层 | 14层 | 14层 |