工艺能力
P R O C E S S C A P A B I L I T Y
P R O C E S S C A P A B I L I T Y
俱进科技刚性板工艺能力参数表 | ||
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项目名称 | 技术能力参数 | |
材料类型 | 普通Tg FR4 | 生益S1141&KB(不推荐用于无铅焊接工艺) |
普通Tg FR4(无卤) | 生益S1155 | |
高Tg FR4(无卤) | 生益S1155 | |
HDI板使用材料类型 | LDPP(IT-180A 1037和1086)、普通106与1080 | |
高CTI | 生益S1600 | |
高Tg FR4 | Isola:FR408、FR408HR、IS410、PCL-370HR;联茂:IT-180A、IT-150DA;Nelco:N4000-13、N4000-13EP、N4000-13SI、N4000-13EP SI;松下:R-5775K(Megtron6)R-5725(Megtron4)台耀:TU-768、TU-662;腾辉:VT-47; | |
陶瓷粉填充高频材料 | Rogers:Rogers4350、Rogers4003 | |
材料混压 | Rogers、Nelco与FR-4 | |
产品类型 | 刚性板 | 背板、HDI、多层埋盲孔、埋电容、埋电阻、厚铜板、电源厚铜、半导体测试板 |
叠层方式 | 多次压合盲埋孔板 | 同一面压合≤3 |
HDI板类型 | 1+n+1、1+1+n+1+1、2+n+2、3+n+3(n中埋孔≤0.3mm),激光盲孔可以电镀填孔 | |
表面处理 | 表面处理类型(无铅) | 电镀铜镍金、沉金、镀硬金(有/无镍)、镀金手指、无铅喷锡、OSP、化学镍钯金、镀软金(有/无镍)、沉银、沉锡、ENIG+OSP、ENIG+G/F、全板镀金+G/F、沉银+G/F、沉锡+G/F |
表面处理类型(有铅) | 有铅喷锡 | |
厚径比 | 10 1(有铅/无铅喷锡 化学沉镍金 沉银 沉锡 化学镍钯金) 8 1(OSP) | |
加工尺寸(MAX) | 有铅喷锡 | |
表面处理类型(有铅) | 有铅喷锡22"*39";无铅喷锡22"*24";镀金手指24"*24";镀硬金24"*28";化学沉金21"*27";图镀铜镍金21"*48";沉锡16"*21";沉银16"*18";OSP24"*40"; | |
加工尺寸(MIN) | 有铅喷锡5"*6";无铅喷锡10"*10";镀金手指12"*16";镀硬金3"*3";图镀铜镍金8"*10";沉锡2"*4";沉银2"*4";OSP2"*2"; | |
加工板厚 | 有铅喷锡0.6-4.0mm;无铅喷锡0.6-4.0mm;镀金手指1.0-3.2mm;镀硬金0.1-5.0mm;化学沉金0.2-7.0mm;图镀铜镍金0.15-5.0mm;沉锡0.4-5.0mm;沉银0.4-5.0mm;OSP0.2-6.0mm; | |
金手指高度最大 | 1.5inch | |
金手指间最小间距 | 6mil | |
分段金手指最小分段间距 | 7.5mil | |
表面镀层(覆盖层)厚度 | 喷锡 | 2-40um(有铅喷锡大锡面最薄厚度0.4um,无铅喷锡大锡面最薄厚度1.5um) |
OSP | 膜层厚度:0.2-0.6um | |
化学沉镍金 | 金厚0.05-0.10um,镍厚3-8um | |
化学沉银 | 银厚0.2-0.4um | |
化学沉锡 | 锡厚≥1.0 | |
电镀硬金 | 金厚0.10-1.5um(干膜图镀工艺),金厚0.10-4.0um(非干膜图镀工艺) | |
电镀软金 | 金厚0.10-1.5um(干膜图镀工艺),金厚0.10-4.0um(非干膜图镀工艺) | |
化学镍钯金 | 金厚0.05-0.10um,镍厚3-8um,钯厚0.05-0.15um | |
电镀铜镍金 | 金厚0.025-0.10um,镍厚≥3um,基铜厚度最大1OZ | |
金手指镀镍金 | 金厚0.25-1.5um(要求值指最薄点),镍厚≥3um | |
碳油 | 0.1-0.35mm | |
绿油 | 铜面盖油(10-18um)、过孔盖油(5-8um)、线路拐角处≥5um(一次印刷、铜厚48um以下) | |
蓝胶 | 0.20-0.80mm | |
钻孔 | 0.1/0.15/0.2mm机械钻孔最大板厚 | 0.8mm/1.5mm/2.5mm |
激光钻孔孔径最小 | 0.1mm | |
激光钻孔孔径最大 | 0.15mm | |
机械孔直径(成品) | 0.15-6.2mm(对应钻刀0.2-6.3mm) | |
PTFE材料(含混压)板最小成品孔径0.25mm(对应钻刀0.35mm) | ||
机械埋盲孔孔径≤0.3mm(对应钻刀0.4mm) | ||
盘中孔绿油塞孔钻孔直径≤0.45mm(对应钻刀0.55mm) | ||
连孔孔径最小0.35mm(对应钻刀0.45mm) | ||
金属化半孔孔径最小0.30mm(对应钻刀0.4mm) | ||
通孔板厚径比最大 | 20:1(不含≤0.2mm刀径;>12:1需评) | |
激光钻孔深度孔径比最大 | 1:1 | |
机械控深钻盲孔深度孔径比最大 | 1.3:1(孔径≤0.20mm),1.15:1(孔径≥0.25mm) | |
机械控深钻(背钻)深度最小 | 0.2mm | |
钻孔-机械钻孔到导体最小距离(非埋盲孔板和一阶激光盲孔) | 5.5mil(≤8层);6.5mil(10-14);7mil(>14层) | |
钻孔-机械钻孔到导体最小距离(机械埋盲孔板和二阶激光埋盲孔) | 7mil(一次压合);8mil(二次压合);9mil(三次压合) | |
钻孔-机械钻孔到导体最小距离(激光盲埋孔) | 7mil(1+N+1);8mil(1+1+N+1+1或2+N+2) | |
钻孔-激光钻孔到导体最小体距离(1、2阶HDI板) | 5mil | |
钻孔-不同网络孔壁之间距离最小(补偿后) | 10mil | |
钻孔-相同网络孔壁之间距离最小(补偿后) | 6mil(通孔;激光盲孔);10mil(机械盲埋孔) | |
钻孔-非金属孔壁之间距离最小(补偿后) | 8mil | |
钻孔-孔位公差(与CAD数据比) | ±2mil | |
钻孔-NPTH孔孔径公差最小 | ±2mil | |
钻孔-免焊器件孔孔径精度 | ±2mil | |
钻孔-锥形孔深度公差 | ±0.15mm | |
钻孔-锥形孔孔口直径公差 | ±0.15mm | |
焊盘(环) | 激光孔内、外层焊盘尺寸最小 | 10mil(4mil激光孔),11mil(5mil激光孔) |
机械过孔内、外层焊盘尺寸最小 | 16mil(8mil孔径) | |
BGA焊盘直径最小 | 有铅喷锡工艺10mil,无铅喷锡工艺12mil,其它工艺7mil | |
焊盘公差(BGA) | +/-1.2mil(焊盘<12mil);+/-10%(焊盘≥12mil) | |
线宽/间距 | 内层 | 1/2OZ:3/3mil |
1OZ: 3/4mil | ||
2OZ: 4/5mil | ||
3OZ: 5/8mil | ||
4OZ: 6/11mil | ||
5OZ: 7/13.5mil | ||
6OZ: 8/15mil | ||
7OZ: 9/18mil | ||
8OZ: 10/21mil | ||
9OZ: 11/24mil | ||
10OZ: 12/27mil | ||
外层 | 1/3OZ基铜:3/3mil | |
1/2OZ基铜:3.5/3.5mil | ||
1OZ基铜: 4.5/5mil | ||
1.43OZ基铜(正片):4.5/6 | ||
1.43OZ基铜(负片):5/7 | ||
2OZ基铜: 6/7mil | ||
3OZ基铜: 6/10mil | ||
4OZ基铜: 7.5/13mil | ||
5OZ基铜: 9/16mil | ||
6OZ基铜: 10/19mil | ||
7OZ基铜: 11/22mil | ||
8OZ基铜: 12/26mil | ||
9OZ基铜: 13/30mil | ||
10OZ基铜: 14/35mil | ||
线宽公差 | ≤10mil:+/-1.0mil | |
>10mil:+/-1.5mil | ||
阻焊字符 | 阻焊塞孔最大钻孔直径(两面盖油) | 0.9mm |
阻焊油墨颜色 | 绿、黄、黑、蓝、红、白、紫、绿色亚光 | |
字符油墨颜色 | 白、黄、黑 | |
蓝胶铝片塞孔最大直径 | 5mm | |
树脂塞孔钻孔孔径范围 | 0.1-1.0mm | |
树脂塞孔最大厚径比 | 10:1 | |
阻焊字符-阻焊桥最小宽度 | 基铜≤0.5OZ、表面处理为沉锡:7.5(黑色)、5.5(其它颜色)、8.0(大铜面上阻焊桥) | |
基铜≤0.5OZ、沉锡外其它表面处理:5.5(黑色、极限5)、4(其它颜色、极限3.5)、8.0(大铜面上阻焊桥) | ||
基铜1OZ:4(绿色),5(其它颜色),5.5(黑色、极限5),8.0(大铜面上阻焊桥) | ||
基铜1.43oz:4(绿色),5.5(其它颜色),6(黑色),8.0(大铜面上阻焊桥) | ||
基铜2-4OZ:6、8(大铜面上阻焊桥) | ||
外形 | V-CUT不漏铜的中心线到图形距离 | H≤1.0mm:0.3mm(20°指V-CUT角度)、0.33mm(30°)、0.37mm(45°); |
1.0 < H≤1.6mm:0.36mm(20°)、0.4mm(30°)、0.5mm(45°); | ||
1.6 < H≤2.4mm:0.42mm(20°)、0.51mm(30°)、0.64mm(45°); | ||
2.4<H≤3.2mm:0.47mm(20°)、0.59mm(30°)、0.77mm(45°); | ||
V-CUT对称度公差 | ±4mil | |
V-CUT线数量最多 | 100条 | |
V-CUT角度公差 | ±5度 | |
化学镍V-CUT角度规格钯金 | 20、30、45度 | |
金手指倒角角度 | 20、30、45、60度 | |
金手指倒角角度公差 | ±5度 | |
金手指旁TAB不倒伤的最小距离 | 6mm | |
金手指侧边与外形边缘线最小距离 | 8mil | |
控深铣槽(边)深度精度(NPTH) | ±0.10mm | |
外形尺寸精度(边到边) | ±4mil | |
铣槽槽孔最小公差(PTH) | 槽宽、槽长方向均±0.13mm | |
铣槽槽孔最小公差(NPTH) | 槽宽、槽长方向均±0.10mm | |
钻槽槽孔最小公差(PTH) | 槽宽方向±0.075mm;槽长/槽宽 <2:槽长方向+/-0.1mm;槽长/槽宽≥2:槽长方向+/-0.075m | |
钻槽槽孔最小公差(NPTH) | 槽宽方向±0.05mm;槽长/槽宽 <2:槽长方向+/-0.075mm;槽长/槽宽≥2:槽长方向+/-0.05mm | |
局部混压 | 局部混压区域钻孔到导体最小距离 | 12(局部10)mil |
局部混压交界处到钻孔最小距离 | 10mil | |
金属基板 | 层数 | 铝基板、铜基板:1-8层; |
成品尺寸(铝基板、铜基板、冷板、烧结板、埋金属板) | MAX:610*610mm、MIN:5*5mm | |
生产尺寸最大(陶瓷板) | 100*100mm | |
成品板厚 | 0.5-5.0mm | |
铜厚 | 0.5-10 OZ | |
金属基厚 | 0.5-4.5mm | |
金属基材质 | AL:1100/1050/2124/5052/6061;Copper:紫铜纯铁 | |
最小成品孔径及公差 | NPTH:0.5±0.05mm;PTH(铝基板、铜基板):1.0±0.1mm;PTH(冷板、烧结板、埋金属板):0.2±0.10mm; | |
外形加工精度 | ±0.03mm | |
PCB部分表面处理工艺 | 有/无铅喷锡;OSP;沉镍(钯)金;电(镍) 软/硬金;电镀锡;无镍电镀软硬金;厚金制作 | |
金属表面处理 | 铜:镀镍金;铝:阳极氧化、硬质氧化、化学钝化;机械处理:干法喷沙、拉丝 | |
金属基材料 | 全宝铝基板(T-110、T-111);腾辉铝基板(VT-4A1、VT-4A2、VT-4A3);莱尔德铝基板(1KA04、1KA06);贝格斯金属基板(MP06503、HT04503);TACONIC金属基板(TLY-5、TLY-5F); | |
导热胶厚度(介质层) | 75-150um | |
埋铜块尺寸 | 3*3mm—70*80mm | |
埋铜块平整度(落差精度) | ±40um | |
埋铜块到孔壁距离 | ≥12mil | |
导热系数 | 0.3-3W/m.k(铝基板、铜基板、冷板);8.33W/m.k(烧结板);0.35-30W/m.k(埋金属板);24-180W/m.k(陶瓷板); | |
其它 | 完成铜厚最大 | 12内层:10 OZ;外层:11 OZ |
外层成品铜厚 | 12、18um基铜:≥35.8(参考值:35.8-42.5);≥40.4(参考值:40.4-48.5) | |
35、50、70um基铜:≥55.9;≥70;≥86.7 | ||
105、140um基铜:≥117.6;≥148.5 | ||
线路板层数 | 1-40层 | |
成品板厚 | 0.20-7.0mm(无阻焊);0.40-7.0mm(有阻焊); | |
板厚公差(常规) | 板厚±10%(>1.0mm);±0.1mm(≤1.0mm); | |
板厚公差(特殊) | 板厚±0.1mm(≤2.0mm);±0.15mm(2.1-3.0mm) | |
成品尺寸最小 | 10*10mm(无内定位拼板设计;50*50以下拼板) | |
成品尺寸最大 | 23*35inch(双面板);22.5*33.5inch(四层板);22.5*30(≥六层板); | |
离子污染 | ≤1ug/cm2 | |
翘曲度极限能力 | 0.1%(此能力要求叠层板材类型一致、叠层严格对称、对称层残铜率差异10%以内、布线均匀,不能出现集中的大铜皮或者基材、叠层中不含光板和单面板,且拼板尺寸长边≤21英寸;) | |
阻抗公差 | ±5Ω( <50Ω),±10%(≥50Ω); | |
电镀填孔激光盲孔孔径 | 4-5mil(优先使用4mil) | |
电镀填孔盲孔孔深孔径比最大 | 1:1(深度为含铜厚度) |